Traitements, dépôts et gravures de surfaces par l'action directe ou indirecte de lasers et/ou de plasmas RF, HF, ou PFHE ; microélectronique et microsystèmes, dépôts de couches minces, nanomatériaux (notamment NTC) et nanopoudres (production, métrologie et fonctionnalisation)
Production de rayonnement énergétique (X, EUV, VUV, UV) par plasmas de décharges impulsionnelles pour l'éclairage, la métrologie, le diagnostic, la photochimie, la photobiologie, l'imagerie rapide et l'irradiation.
